C-2棟1F [少量中間体製造設備]

主要機器一覧 反応蒸留機（100Ｌ 、グラスライニング）　1基 ロータリーエバポレーター（２０L)　3基 横円筒型真空乾燥機（100Ｌ 、ＳＵＳ316）　1基 ドラフトチャンバー　2基 中圧接触還元装置　1台 排ガス処理設備 　 　 [危険物少量取扱所]

C-1棟 [中間体・原薬製造設備]

C-3棟1F [高生理活性物質取扱設備]

C-3棟2F [少量原薬製造設備]

C-2棟1F [少量中間体製造設備]

C-2棟 開発部実験室

C-2棟 試験検査室

C-2棟 微生物試験室

A-1棟 [中間体製造設備]